動態吸附儀的操作方法及注意事項

動態吸附儀的操作方法及注意事項。

1.操作方法(TPR)。

1.樣品安裝在反應器中。

2.打開主機電源和操作軟件。

3.閥2接入氧氣，打開閥2，閥7打向閥2，閥8打向排空，氣流計調整至40-60ml/min，樣品加熱氧化。氧化溫度和時間取決于具體樣品。

4.閥1與氬氣相連，閥7向閥1.1.2質量流量計流量為30ml/min，放下加熱爐，冷卻至加熱爐降至室溫。

5.閥1切至氫氬混合氣室溫吹掃5-10min，閥8打向TCD。

6.打開TCD，基線穩定后升起加熱爐，開始加熱。

7.峰圖顯示基線穩定后，關閉TCD，關閉溫度控制器，減少加熱爐，保存數據。

8.閥1切至氬氣吹掃5-10min。

9.關閉氣體、主機電源和操作軟件。

動態吸附儀注意事項。

1.先通載氣體，再打開TCD，再關閉TCD，再處理其他操作(TCD燒壞)。

2.主機和軟件無記憶功能，必須在軟件中重新設置閥門開關和1.2質量流量計流量。

3.在連續進入氫氧處理樣品時，惰性氣體必須在中間吹掃。

  以上就是小編為大家介紹的動態吸附儀的操作方法及注意事項，看完這篇文章相信大家應該有所了解了，感謝大家耐心的閱讀！